Til Vægs

På Nanna Debois Buhls udstilling Pattern Machines vises en serie af hendes algoritmitske værker, der i visuelle mønstre og foranderlig poesi udfolder historiske, teoretiske og materielle sammenhænge mellem kodning og vævning, tråd og pixel, tekstil og skærm.

På én skærm kan man opleve en visuel mutation af en væveopskrift fra 1800-tallet, mens man på en anden skærm ser et transformativt mønster inspireret af en akvarelskitse af Bauhaus-væveren Anni Albers fra 1926. På en tredje skærm vises en generativ tekst, der kombinerer ord fra Kathryn Sullivan Krugers bog “Weaving the Word: The Metaphorics of Weaving and Female Textual Production” til et digt, der kontinuerligt væver sig selv; en metarefleksion over tekst- og tekstilproduktion. Værkerne trækker således på referencer fra tidlig computerkunst, system-baseret poesi, vævehistorie og ny forskning om digital materialitet og menneske-maskine relationer.

Udstillingen kan ses som en tidsrejse der udfordrer vores gængse opfattelser af vævningens og computerens historier og de kønslige forestillinger, vi ofte forbinder med dem. I de fortsatte transformationer af tekster og mønstre reflekterer værkerne over, hvordan vi kan få nye forståelser af algoritmer og tekstiler – deres materialiteter, logikker og indbyrdes sammenhænge – og genoverveje deres fortidige, nutidige og fremtidige sammenhænge.

Værkerne er på én gang baseret på system og tilfældighed: deres programmering er baseret på en systematisk struktur, men også på uforudsigelighed. Over tid forskyder og forandrer algoritmerne ord- og billedkonstallationer på måder, der ligger udenfor kunstnerens kontrol. Og på udstillingens pixelerede diodeskærme føjes endnu nye dimensioner til værkernes digitale udtryk. Således glitches både stof og historier, og uforudsigelige mønstre og perspektiver opstår.

OM KUNSTNEREN:

Nanna Debois Buhl er en dansk billedkunstner, hvis praksis trækker forbindelser på tværs af tidsperioder og mellem mikro- og makroperspektiver. Gennem undersøgelser, der spænder over planter og partikler, skyer og computerhukommelse, forbinder hun videnskabelige, æstetiske og spekulative perspektiver for at fokusere opmærksomhed på materialer og fortælle modhistorier. Buhl har udstillet bredt i Danmark og internationalt. Hendes værker er repræsenteret i mange offentlige samlinger her i blandt Hasselblad Foundation og Malmö Konstmuseum, Sverige, Louisiana Museum for Moderne Kunst, ARKEN Museum for Moderne Kunst og Det Nationale Fotomuseum, Danmark. Udstillingens algoritmer har Nanna Debois Buhl udviklet under et halvt års residency på Massachusetts Institute of Technology, USA i foråret 2022.